本技術(shù)以自主研發(fā)的電弧-濺射技術(shù)為基礎(chǔ)，吸收國(guó)外最新涂層技術(shù)，開(kāi)發(fā)等離子體源增強(qiáng)的PVD鍍鉻新技術(shù)，取代現(xiàn)行電鍍鍍鉻技術(shù)，從根本上解決電鍍生產(chǎn)過(guò)程造成的重金屬污染問(wèn)題。

一、 PVD鍍鉻技術(shù)原理

本技術(shù)主要采用電弧-濺射技術(shù)，利用陰陽(yáng)極之間的放電離化氬氣，使氬離子在作為陰極的靶材電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶原子，中性的靶原子或離子沉積在基片上，形成固體薄膜。本項(xiàng)目在上述原理的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)和新技術(shù)開(kāi)發(fā)，采用改進(jìn)的電弧-濺射技術(shù)提高靶功率密度，采用等離子體源增強(qiáng)技術(shù)提高鍍膜室的等離子體密度，從而開(kāi)發(fā)出環(huán)保、高效的快速PVD鍍鉻新技術(shù)。

二、 PVD鍍鉻技術(shù)的優(yōu)勢(shì)

1. 完全無(wú)污染的生產(chǎn)工藝過(guò)程

在涂層前處理中，采用環(huán)保型的金屬清洗劑對(duì)工件表面進(jìn)行去油和脫脂處理，烘干后工件放入真空室中進(jìn)行PVD鍍鉻處理。鍍鉻過(guò)程以高純金屬鉻為原料，通入氮?dú)夂蜌鍤獾绕垦b氣體，在沉積鉻復(fù)合涂層的專用設(shè)備中，采用先進(jìn)的等離子體源輔助電弧-濺射等先進(jìn)技術(shù)，通過(guò)電場(chǎng)、磁場(chǎng)、等離子體和離子束流的作用，發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)了鉻復(fù)合涂層的生成。使用的原材料價(jià)廉易得，國(guó)內(nèi)可以大量供應(yīng)。在整個(gè)工藝生產(chǎn)過(guò)程中，沒(méi)有采用任何有毒有害的原料，是完全無(wú)污染的綠色環(huán)保生產(chǎn)技術(shù)。

2. 優(yōu)良的基體材料適應(yīng)性

由于PVD鍍鉻裝置能夠提供較高的等離子體密度和靶功率密度，所制備涂層膜-基附著力強(qiáng)，可以在不同襯底材料上(鋼鐵、有色金屬、陶瓷)制備各類金屬和合金。而電鍍方法對(duì)于不同基材需要不同的處理工藝。對(duì)制備不同的涂層材料，PVD技術(shù)只需要更換靶材，而化學(xué)方法制備不同材料需要一系列復(fù)雜的配方和前處理工藝。

3. 優(yōu)越的涂層性能

與電鍍鉻相比，PVD鉻涂層的硬度更高。電鍍鉻的硬度一般為Hv800～900，而PVD方法可以達(dá)到Hv1500以上，同時(shí)耐磨性遠(yuǎn)優(yōu)于電鍍鉻。PVD方法在涂層制備過(guò)程中涂層致密，沒(méi)有孔洞，不會(huì)產(chǎn)生穿透性裂紋，導(dǎo)致腐蝕介質(zhì)從表面滲透至界面而腐蝕基體，造成鍍層表面出現(xiàn)銹斑甚至剝落;