PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物du理氣相沉積”，是指在真空條件下，zhi用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。

PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜(TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。

PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.1μdum～5μm，

其中裝飾鍍膜膜zhi層的厚度一般為0.1μm~1μm，

因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工。