1、檢查真空鍍膜設(shè)備的操作控制開關(guān)是否處于“關(guān)閉”位置。 2、打開主電源開關(guān)，給真空鍍膜設(shè)備上電。 3.拉出低壓閥。打開充液閥。當(dāng)聽不到氣流聲時(shí)，啟動(dòng)鐘罩閥，鐘罩升起。 4.安裝固定鎢絲螺旋加熱器。將PVDF薄膜和鋁蓋板固定在旋轉(zhuǎn)盤上。將鋁線穿入螺旋加熱器。 清潔鐘罩內(nèi)的所有零件，確保沒有雜質(zhì)和污垢。 5.放下鐘罩。 6、啟動(dòng)真空鍍膜設(shè)備的真空機(jī)械泵。 7、打開復(fù)合真空計(jì)電源（復(fù)合真空計(jì)型號(hào)：fzh-1a）。 8、當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”中的指針再次順時(shí)針移動(dòng)到6.7pa時(shí)，低壓閥被推入。 9、開啟真空鍍膜設(shè)備冷卻水，啟動(dòng)擴(kuò)散泵，加熱40min。 10.拉出低壓閥。對(duì)立式單門涂布機(jī)重復(fù)⑦動(dòng)作程序一次：將左下旋鈕“1”旋至指向第2段的測(cè)量位置。 低真空計(jì)“2”中的指針順時(shí)針移動(dòng)。當(dāng)指針移動(dòng)到6.7pa時(shí)，打開高壓閥。 PVD鍍膜分為真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜三大類。 

PVD鍍膜所用設(shè)備：通常稱為PVD真空鍍膜設(shè)備或PVD真空鍍膜機(jī) PVD鍍膜原理：在真空環(huán)境下，采用低壓大電流的電弧放電技術(shù)，采用蒸發(fā)源加熱或加熱 輝光放電和離子轟擊用于將鍍層材料沉積在待鍍產(chǎn)品的表面。 PVD鍍膜：可鍍各種單金屬膜（金、銀、鋁、鋅、鈦等）和氧化膜 （TiO等）、碳化物薄膜（TIC、TiCN等）、氮化物薄膜（錫、CrN、TiAIN等），薄膜顏色可以單一 也可以鍍七種顏色。薄膜厚度為微米，真空鍍膜厚度較薄。涂膜幾乎不影響產(chǎn)品尺寸 。 真空濺射鍍膜： 輝光放電是濺射技術(shù)的基礎(chǔ)。濺射一般在輝光放電過程中產(chǎn)生。濺射使用粒子或具有高動(dòng)能的粒子 離子束轟擊固體表面，使靠近固體表面的原子獲得入射粒子攜帶的部分能量，離開固體進(jìn)入真實(shí)狀態(tài) 空產(chǎn)品。 影響濺射效果的因素：1靶材；2.轟擊離子的質(zhì)量；3、轟擊離子的能量；4.被轟擊原子的入射角。