物理氣相沉積PVD真空泵 

物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)技術(shù)表示在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過(guò)低壓氣體(或等離子體)過(guò)程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。。

PVD的真空系統(tǒng)由真空腔室、分子泵、螺桿加羅茨真空機(jī)組、氣動(dòng)閥門(mén)及氣管組成。進(jìn)出腔室組成低真空系統(tǒng)、隔離室+緩沖室+濺射室組成的高真空系統(tǒng)。

漢鐘IPH系列半導(dǎo)體真空泵，已在各大晶圓工廠應(yīng)用如：中芯國(guó)際、華虹宏力、華潤(rùn)上華、臺(tái)積電、力積電(力晶/巨晶)、穩(wěn)懋、全新、Intel、TI、Linear、三星。