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真空濺射離子鍍膜(PVD)服務(wù)商

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PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍相比有何優(yōu)點(diǎn)?

時間:2023-07-06    點(diǎn)擊數(shù):

物理氣相沉積(PVD,Physical Vapor Deposition)和化學(xué)電鍍是兩種常用的涂層技術(shù),它們各自有其優(yōu)點(diǎn)。相比于化學(xué)電鍍,上海PVD有以下一些優(yōu)點(diǎn):

1. 環(huán)境友好:相較于化學(xué)電鍍,PVD更加環(huán)保,因為它不涉及到有害化學(xué)物質(zhì)的使用,也不會產(chǎn)生有害的廢水和廢氣。

2. 膜層質(zhì)量:PVD可以產(chǎn)生更均勻、更致密、更硬的薄膜,同時也能控制薄膜的厚度和組成。

3. 膜層附著力:PVD涂層具有較好的附著力,即使在復(fù)雜形狀的零件上也能保持良好的附著。

4. 材料選擇:PVD可以用于更廣泛的材料,包括硬質(zhì)金屬、陶瓷、塑料等。

5. 長久耐用:PVD涂層通常比電鍍涂層更耐磨、更耐腐蝕。

6. 高溫性能:PVD涂層在高溫下的性能通常優(yōu)于電鍍涂層。

本文網(wǎng)址:http://www.chinaihte.com/news/623.html

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