隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展和生活水平的提高，人們喜歡將表殼、表帶、服裝、燈飾、眼鏡、室內(nèi)外裝飾架、五金盒、手機(jī)殼、衛(wèi)生潔具、食品包裝等裝飾品裝飾得五顏六色。在生活中，我們會(huì)看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等。其實(shí)，這些就是經(jīng)過(guò)鍍膜技術(shù)加工后的涂層工具。下面我們就針對(duì)這個(gè)技術(shù)，讓真空鍍膜廠(chǎng)鼎凱電子為你講解。

由于鈦的廣泛應(yīng)用，鈦合金PVD涂層已逐漸成為PVD鍍膜領(lǐng)域的常規(guī)材料。與不銹鋼相比，鈦合金PVD鍍膜的難點(diǎn)不在涂層本身，而是結(jié)合剝離和修復(fù)的綜合評(píng)估。缺陷產(chǎn)品的剝離過(guò)程是去除涂層的化學(xué)反應(yīng)過(guò)程。由于鈦基材的產(chǎn)品價(jià)格較高，剝離過(guò)程和涂層去除過(guò)程的化學(xué)反應(yīng)精度不是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。在控制方面，首先考慮的是鈦合金PVD涂層的工藝設(shè)計(jì)。

鍍膜技術(shù)是一種環(huán)境友好的表面處理方法，可以真正無(wú)污染地獲得微米級(jí)涂層。它可以制備各種單金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等）、氮化物膜（TiN[鈦金]、ZrN[鋯金]、CrN、TiAlN）、碳化物膜（TiC、TiCN）和氧化物膜（如TiO2等）。

時(shí)至今日，pvd真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展也出現(xiàn)了諸如PCVD（物理化學(xué)氣相沉積）、MT-CVD（中溫化學(xué)氣相淀積）等新技術(shù)，各種鍍膜設(shè)備和工藝層出不窮。目前比較成熟的PVD方法主要有多弧鍍和磁控濺射鍍。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便。多弧電鍍的缺點(diǎn)是當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3μm時(shí)，沉積速率接近反射率，并且在使用傳統(tǒng)DC電源作為低溫涂層的條件下，成膜變得非常困難。此外，薄膜表面開(kāi)始變得模糊。多弧電鍍的另一個(gè)缺點(diǎn)是，由于金屬在熔化后被蒸發(fā)，沉積的顆粒大，密度低，耐磨性比磁控濺射更差。由此可見(jiàn)，多弧鍍膜和磁控濺射鍍膜各有優(yōu)缺點(diǎn)。為了充分發(fā)揮各自的優(yōu)勢(shì)，實(shí)現(xiàn)互補(bǔ)，一種結(jié)合多弧技術(shù)和磁控管技術(shù)的鍍膜機(jī)應(yīng)運(yùn)而生。在該過(guò)程中，有一種新的方法，即對(duì)背襯進(jìn)行多弧電鍍，然后使用磁控濺射加厚涂層，再使用多弧電鍍實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的表面涂層顏色。